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光照设备、结晶设备、结晶方法和器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510091163.6
  • IPC分类号:G02F1/1368;G02F1/01;H01L29/786
  • 申请日期:
    2005-08-09
  • 申请人:
    株式会社液晶先端技术开发中心
著录项信息
专利名称光照设备、结晶设备、结晶方法和器件
申请号CN200510091163.6申请日期2005-08-09
法律状态放弃专利权申报国家中国
公开/公告日2006-02-15公开/公告号CN1734336
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/1368IPC分类号G;0;2;F;1;/;1;3;6;8;;;G;0;2;F;1;/;0;1;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;6查看分类表>
申请人株式会社液晶先端技术开发中心申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社液晶先端技术开发中心当前权利人株式会社液晶先端技术开发中心
发明人谷口幸夫;松村正清
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人王英
摘要
一种光照设备,包括光调制元件(1),该元件具有相位阶梯,该相位阶梯具有远远不同于180°的相差;光照光学系统(10),该系统照射光调制元件;和成像光学系统(4),基于由光调制元件进行了相位调制的光束该系统在照射表面上形成光强度分布。光照光学系统用在垂直于相位阶梯的阶梯线的方向上倾斜的光照光束照射光调制元件。

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