OPC检测方法、计算机设备及计算机可读存储介质

发明专利有效专利

申请号：
CN202110691403.5
IPC分类号：G03F1/36
申请日期：
2021-06-22
申请人：
上海积塔半导体有限公司

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著录项信息

专利名称	OPC检测方法、计算机设备及计算机可读存储介质
申请号	CN202110691403.5	申请日期	2021-06-22
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-10	公开/公告号	CN113376954A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/36 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/36 具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;6查看分类表>
申请人	上海积塔半导体有限公司	申请人地址	上海市浦东新区云水路600号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海积塔半导体有限公司	当前权利人	上海积塔半导体有限公司
发明人	夏国帅
代理机构	上海光华专利事务所（普通合伙）	代理人	卢炳琼

摘要

本发明提供一种OPC检测方法、计算机设备及计算机可读存储介质，其中，通过对第二目标图形进行圆化处理后，得到的圆化图形更加接近实际硅片的图形，可以减少由于与实际硅片图形间的差异所引起的误报错；通过第一仿真图形与第二圆化图形之间的逻辑否运算后，进行围住率检测，可进一步的减少围住率检查的误报错，从而得到更为准确的OPC检测的结果图形。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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