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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种晶圆清洗机台

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201820292619.8
  • IPC分类号:H01L21/687;H01L21/67
  • 申请日期:
    2018-03-01
  • 申请人:
    德淮半导体有限公司
著录项信息
专利名称一种晶圆清洗机台
申请号CN201820292619.8申请日期2018-03-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/687IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人德淮半导体有限公司申请人地址
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人德淮半导体有限公司当前权利人德淮半导体有限公司
发明人袁林涛;张文福;高英哲
代理机构上海思捷知识产权代理有限公司代理人王宏婧
摘要
本实用新型公开了一种晶圆清洗机台,包括用于旋转晶圆的旋转底座,所述旋转底座的中心位置设置有一凹槽,所述凹槽的侧壁为斜坡面,且所述凹槽的底部与侧壁的夹角大于90度;背面喷嘴管路,所述背面喷嘴管路为保护气体管路,且与所述凹槽的底部连通。本实用新型的晶圆清洗机台在清洗晶圆背面时,通过保护气体向四周扩散至晶圆正面,从而抑制清洗晶圆背面的清洗液的污染,达到保护晶圆正面的效果,提高产品良率。

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