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用于校准用于有生产力地制造三维物体的设备的装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201680075372.8
  • IPC分类号:B29C64/153;B29C64/393;B33Y50/02;G05B19/401;G05B11/00
  • 申请日期:
    2016-12-20
  • 申请人:
    EOS有限公司电镀光纤系统
著录项信息
专利名称用于校准用于有生产力地制造三维物体的设备的装置及方法
申请号CN201680075372.8申请日期2016-12-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-09-14公开/公告号CN108541230A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B29C64/153IPC分类号B;2;9;C;6;4;/;1;5;3;;;B;2;9;C;6;4;/;3;9;3;;;B;3;3;Y;5;0;/;0;2;;;G;0;5;B;1;9;/;4;0;1;;;G;0;5;B;1;1;/;0;0查看分类表>
申请人EOS有限公司电镀光纤系统申请人地址
德国克赖灵 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人EOS有限公司电镀光纤系统当前权利人EOS有限公司电镀光纤系统
发明人J·菲利皮
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人赵培训
摘要
一种用于校准制造装置(1)的校准平台(31),制造装置用于通过构建材料(15)的、在对应于三维物体的相应的横截面的位置处的逐层固结而制造三维物体(2),其中通过在工作平面(7)中用辐射(22)选择性地辐射多层所述构建材料实现逐层固结。校准平台具有长条形形状且包括孔平台(42),其沿校准平台的纵向方向延伸且包括沿校准平台的纵向方向成行布置的多个孔开口(43),孔开口与孔平台的、包围孔开口的区域相比对辐射装置的辐射具有更大的透过性。校准平台还包括传感器平台(40),其沿所述校准平台的纵向方向延伸、大致平行于孔平台布置且包括能够检测辐射装置的辐射的至少一个表面传感器(41)。校准平台能安装于制造装置中,以使得辐射装置的辐射可通过孔开口撞击至少一个表面传感器,优选地,使孔平台(42)位于制造装置的工作平面中。

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