一种基于大气压辉光的低温等离子体系统

发明专利无效专利

申请号：
CN200910058641.1
IPC分类号：C23C14/56;C23C16/54;C23C16/50
申请日期：
2009-03-18
申请人：
成都同明新材料技术有限公司

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专利名称	一种基于大气压辉光的低温等离子体系统
申请号	CN200910058641.1	申请日期	2009-03-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2009-10-14	公开/公告号	CN101555588
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/56 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/56 连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;4;;;C;2;3;C;1;6;/;5;0查看分类表>
申请人	成都同明新材料技术有限公司	申请人地址	四川省成都市高新西区西芯大道2号4幢23号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成都同明新材料技术有限公司	当前权利人	成都同明新材料技术有限公司
发明人	宋红兵
代理机构	成都九鼎天元知识产权代理有限公司	代理人	詹永斌;吴彦峰

摘要

本发明公开了一种基于大气压辉光的低温等离子体系统，涉及大气压辉光等离子体系统及相应液相注入引发化学反应体系，目的是解决现有等离子体液相注入系统存在液相易进入等离子体区造成不利影响的问题，包括至少两个由平板电极相对的空间构成的等离子体区；设置在上述等离子体区之间能够连续传送基材的传动机构；雾化器，用于将液相雾化后通入等离子体系统；气体入口，用于将工作气体通入体系；所述平板电极水平放置，等离子体区为水平的上下层结构，平板电极的一端连接有引导板，形成引导区，传动机构通过该引导区；气体入口设置在平板电极与引导板的连接处，气体入口进入的气流方向在两个等离子体区中分别与基材的运动方向相同或相反。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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