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用发射光谱学/残余气体分析仪结合离子电流的剂量测定

发明专利无效专利

申请号：
CN200810082733.9
IPC分类号：H01L21/00;H01J37/00
申请日期：
2008-02-27
申请人：
应用材料股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用发射光谱学/残余气体分析仪结合离子电流的剂量测定
申请号	CN200810082733.9	申请日期	2008-02-27
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2008-09-03	公开/公告号	CN101256942
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/00 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;H;0;1;J;3;7;/;0;0查看分类表>
申请人	应用材料股份有限公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料公司	当前权利人	应用材料公司
发明人	卡提克·雷马斯瓦米;塞奥-米·乔;田中努;马耶德·阿里·福阿德
代理机构	北京律诚同业知识产权代理有限公司	代理人	徐金国

摘要

本发明主要提供了在等离子体工艺中控制实时离子剂量的方法和装置。在一个实施例中，离子剂量可利用从质量分布传感器的等离子体的原地测量结合从射频探针的原地测量进行控制。

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