首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

减少半导体制造中的黑硅

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN99103446.5
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1999-03-11
  • 申请人:
    西门子公司;国际商业机器公司
著录项信息
专利名称减少半导体制造中的黑硅
申请号CN99103446.5申请日期1999-03-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日1999-10-13公开/公告号CN1231499
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人西门子公司;国际商业机器公司申请人地址
联邦德国*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西门子公司,国际商业机器公司当前权利人西门子公司,国际商业机器公司
发明人王廷浩;彭登青;D·M·多布岑斯凯;R·S·维瑟
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人王忠忠
摘要
黑硅的减少是通过在形成硬腐蚀掩模之前在晶片的轮缘部分和侧面提供保护器件层实现的。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供