用于高光敏度高抗蚀厚涂层i－线光刻胶的磺酰肟类

发明专利无效专利

申请号：
CN99117977.3
IPC分类号：--
申请日期：
1999-08-18
申请人：
西巴特殊化学品控股有限公司

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专利名称	用于高光敏度高抗蚀厚涂层i－线光刻胶的磺酰肟类
申请号	CN99117977.3	申请日期	1999-08-18
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2000-03-08	公开/公告号	CN1246655
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	西巴特殊化学品控股有限公司	申请人地址	瑞士巴塞尔变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西巴特殊化学品控股有限公司	当前权利人	西巴特殊化学品控股有限公司
发明人	T·阿萨库拉;H·布莱尔;C·德勒奥
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	王景朝;王其灏

摘要

能被光激活的组合物,包含至少一种能受酸作用而交联的化合物,和/或至少一种在酸的作用下改变其溶解度的化合物,以及至少一种作为光引发剂的在240—390nm波长光照射下产生磺酸,其在i线(365nm)处摩尔消光系数ε小于10的化合物,此组合物特别适用于制造负型及正型光刻胶,印刷版,图像记录材料或滤色器。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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