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一种衍射效率渐变的光栅耦合器制备装置和制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910092457.2
  • IPC分类号:G02B5/18
  • 申请日期:
    2019-01-30
  • 申请人:
    苏州大学
著录项信息
专利名称一种衍射效率渐变的光栅耦合器制备装置和制备方法
申请号CN201910092457.2申请日期2019-01-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-04-09公开/公告号CN109597157A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B5/18IPC分类号G;0;2;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人苏州大学申请人地址
江苏省苏州市相城区济学路8号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州大学当前权利人苏州大学
发明人蔡志坚;吴建宏
代理机构苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)代理人杨慧林
摘要
本发明公开了一种衍射效率渐变的光栅耦合器制备装置和制备方法,包括:离子束发生器,其发出离子束以刻蚀光栅;挡板,其位于所述离子束发生器的下侧,所述挡板上开设有通孔;沿x方向,所述通孔在y方向的宽度渐变;样品台,其位于所述挡板下侧,所述样品台用于放置样品,所述样品为光栅基板,所述光栅基板上设置有光栅掩膜;动力组件,其驱动所述样品台或所述挡板沿y方向匀速运动;其中,x方向和y方向为水平面上相互垂直的方向;所述动力组件驱动所述样品与所述通孔在y方向发生相对移动,所述离子束经所述通孔在样品上刻蚀出槽深渐变的光栅。其能够刻蚀衍射效率渐变的光栅,精度高,便于实施。

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