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用于从气体流中减少杂质的工艺和系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910167019.4
  • IPC分类号:B01D53/02
  • 申请日期:
    2009-08-12
  • 申请人:
    赫多特普索化工设备公司
著录项信息
专利名称用于从气体流中减少杂质的工艺和系统
申请号CN200910167019.4申请日期2009-08-12
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-03-24公开/公告号CN101676016
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D53/02IPC分类号B;0;1;D;5;3;/;0;2查看分类表>
申请人赫多特普索化工设备公司申请人地址
丹麦灵比尼莫尔亍55号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人赫多特普索化工设备公司当前权利人赫多特普索化工设备公司
发明人P·E·H·尼尔森;R·森尼
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘锴;韦欣华
摘要
本发明涉及用于从气体流中减少杂质的工艺和系统,具体地涉及用于从进料气体减少羰基硫化物、二硫化碳、羰基金属化合物、硫化氢和氰化氢、氨以及砷和氯化合物的工艺,其包括如下步骤:使所述气体连续且依次地接触包括活性炭的第一净化剂、包括氧化铝的第二净化剂、包括氧化锌的第三净化剂、包括沸石的材料的第四净化剂以及包括氧化锌和氧化铜的第五净化剂。

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