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一种光刻设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202121471377.7
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2021-06-30
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称一种光刻设备
申请号CN202121471377.7申请日期2021-06-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人吴东;张洪博;赵建军;张瑞平;刘连军;王飞;郎东春;王伟伟
代理机构北京品源专利代理有限公司代理人贾爱存
摘要
本实用新型属于光刻技术领域,尤其涉及一种光刻设备,包括温控系统,所述温控系统包括由下至上依次设置的制冷单元、接水盘、换热器及风机,所述制冷单元与所述换热器循环连通并用于向所述换热器供给低温介质,所述接水盘用于承接从所述换热器表面滴落的冷凝水,所述接水盘包括盘体,所述盘体包括底板,所述底板的周缘向上弯折形成有弯折边,所述底板凹设形成有集水槽,所述集水槽的槽底开设有排水口,所述排水口处设置有排水管。本实用新型公开的光刻设备,能够提高光刻设备的运行安全性和运行可靠性。

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