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一种光刻设备及在光刻中使用的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200580017841.2
IPC分类号：H05H3/02;G03F7/20;H01L21/306
申请日期：
2005-04-08
申请人：
英特尔公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种光刻设备及在光刻中使用的方法
申请号	CN200580017841.2	申请日期	2005-04-08
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-05-09	公开/公告号	CN1961619
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H05H3/02 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H05 其他类目不包含的电技术 H05H 等离子体技术（离子束管入H01J 27/00；磁流体发电机入H02K 44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G 2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速（原子钟入G04F 5/14；受激发射器件入H01S；通过与由分子、原子或亚原子粒子的能级所确定的基准频率相比较而进行频率调整的入H03L 7/26） H05H3/00 中性粒子束，例如分子束或原子束，的产生或加速〔3〕 H05H3/02 分子束或原子束的产生，例如谐振射束的产生（气体激射器入H01S 1/06）〔3〕	IPC分类号	H;0;5;H;3;/;0;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6查看分类表>
申请人	英特尔公司	申请人地址	美国加利福尼亚州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	英特尔公司	当前权利人	英特尔公司
发明人	彼得·西尔弗曼
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	钱慰民

摘要

本发明的实施方案提供产生原子束的束发生器，所述原子束越过掩模版的已图形化表面传播。所述束可以与颗粒相互作用，以阻止所述颗粒污染掩模版。

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