加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201780029596.X
  • IPC分类号:C09D183/04;C09D7/63
  • 申请日期:
    2017-03-03
  • 申请人:
    霍尼韦尔国际公司
著录项信息
专利名称用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途
申请号CN201780029596.X申请日期2017-03-03
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2018-12-21公开/公告号CN109072003A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09D183/04IPC分类号C;0;9;D;1;8;3;/;0;4;;;C;0;9;D;7;/;6;3查看分类表>
申请人霍尼韦尔国际公司申请人地址
美国新泽西州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人霍尼韦尔国际公司当前权利人霍尼韦尔国际公司
发明人N.E.伊瓦莫托;J.T.肯尼迪;D.瓦拉普拉萨德;S.穆霍帕迪亚伊;谢松元
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人马蔚钧;万雪松
摘要
一种组合物包含溶剂、催化剂、包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。示例性的交联剂包括双甲硅烷基苯、双烷氧基硅烷、1,3‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,4‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑萘、9,10‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑蒽和1,6‑双(三甲氧基甲硅烷基)‑芘。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供