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垂直磁记录介质及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510089674.4
  • IPC分类号:G11B5/667;G11B5/738;G11B5/84;H01F1/00
  • 申请日期:
    2005-08-08
  • 申请人:
    日立环球储存科技荷兰有限公司
著录项信息
专利名称垂直磁记录介质及其制造方法
申请号CN200510089674.4申请日期2005-08-08
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-03-22公开/公告号CN1750128
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11B5/667IPC分类号G;1;1;B;5;/;6;6;7;;;G;1;1;B;5;/;7;3;8;;;G;1;1;B;5;/;8;4;;;H;0;1;F;1;/;0;0查看分类表>
申请人日立环球储存科技荷兰有限公司申请人地址
荷兰阿姆斯特丹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日立环球储存科技荷兰有限公司当前权利人日立环球储存科技荷兰有限公司
发明人武隈育子;玉井一郎;平山义幸;细江让;本田好范
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司代理人杨林森;谷惠敏
摘要
本发明的目的是减少氧化物粒状介质的颗粒间交换耦合并获得高介质S/N值,由此达到大于每平方厘米23千兆位以上的面记录密度。为此目的,形成包含在基片上按顺序层压软磁底层、包括钌的下中间层、由钌晶粒和氧化物晶界组成的上中间层以及由晶粒和氧化物晶界组成的磁记录层的结构,在上中间层的钌晶粒上外延生长磁记录层的晶粒,并且在上中间层的晶界上生长磁记录层的晶界。

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