一种用于气囊抛光的接触力实时控制系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201210140524.1
IPC分类号：B24B29/00;B24B51/00
申请日期：
2012-05-07
申请人：
浙江工业大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	一种用于气囊抛光的接触力实时控制系统
申请号	CN201210140524.1	申请日期	2012-05-07
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2012-09-12	公开/公告号	CN102658517A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B29/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B29/00 有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置（使用砂带磨削或抛光入B24B 21/00）〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;2;9;/;0;0;;;B;2;4;B;5;1;/;0;0查看分类表>
申请人	浙江工业大学	申请人地址	广东省广州市天河区五山路371号之一主楼2414-2416单元变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江海宁经编产业园区开发有限公司,广东高航知识产权运营有限公司	当前权利人	浙江海宁经编产业园区开发有限公司,广东高航知识产权运营有限公司
发明人	计时鸣;敖海平;金明生;张利;曾晰;丁洁瑾
代理机构	杭州天正专利事务所有限公司	代理人	王兵;黄美娟

摘要

本发明公开了一种用于气囊抛光的接触力实时控制系统，包括气囊抛光装置、气源、气压调节装置、对进入气囊的气体压力进行实时调节的控制系统；所述气囊抛光装置包括起抛光作用的气囊和与所述气源连通的气室，所述的气囊固定于一保持架上，所述的保持架通过主轴与一电机连动，所述的主轴上设有连通所述气囊与气室的气道；所述的气室上安装有检测气室内实际气压的压力传感器，所述的压力传感器与所述的控制系统相连。本发明通过采用控制系统对气囊内的气体压力进行实时调节，实现了抛光过程中接触力的实时控制，使气囊与被抛光工件间的接触力保持稳定，有利于提高抛光效果与抛光精度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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