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一种用于耦合腔加速结构的边耦合腔测量装置及边耦合腔测量方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011618129.0
  • IPC分类号:G01R23/02
  • 申请日期:
    2020-12-30
  • 申请人:
    中国原子能科学研究院
著录项信息
专利名称一种用于耦合腔加速结构的边耦合腔测量装置及边耦合腔测量方法
申请号CN202011618129.0申请日期2020-12-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-05-07公开/公告号CN112763795A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R23/02IPC分类号G;0;1;R;2;3;/;0;2查看分类表>
申请人中国原子能科学研究院申请人地址
北京市房山区新镇三强路1号院 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国原子能科学研究院当前权利人中国原子能科学研究院
发明人杨誉;杨京鹤
代理机构北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司代理人王鹏鑫
摘要
本发明公开了一种用于耦合腔加速结构的边耦合腔测量装置,包括网络分析仪、测量部和电缆。其中,所述测量部包括主体和同轴线;所述主体为形成有凹槽的铜管;所述同轴线的一端设有磁耦合环;所述同轴线位于所述主体中,且所述磁耦合环位于所述凹槽中;所述同轴线的另一端设有同轴射频接头;所述同轴射频接头通过所述电缆与所述网络分析仪连接。本发明的技术方案通过主体上的凹槽以及位于凹槽中的磁耦合环,既可以实现将待测边耦合腔两侧的加速腔完全短路,又可以为微波信号的激励和接收装置留出了空间,从而可以准确地获取边耦合腔的测试结果。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供