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可清除的图像形成材料及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710149670.X
  • IPC分类号:G03G9/08;G03G9/087
  • 申请日期:
    2007-09-10
  • 申请人:
    株式会社东芝
著录项信息
专利名称可清除的图像形成材料及其制造方法
申请号CN200710149670.X申请日期2007-09-10
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2008-03-19公开/公告号CN101144992
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03G9/08IPC分类号G;0;3;G;9;/;0;8;;;G;0;3;G;9;/;0;8;7查看分类表>
申请人株式会社东芝申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社东芝当前权利人株式会社东芝
发明人五反田武志;高山晓;佐野健二;关口裕实子;樱田新哉
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明提供一种可清除的图像形成材料,其包含:粘合剂树脂、分散在前述粘合剂树脂中的成色性化合物以及显色剂。该成色性化合物为非晶质。

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