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基于纵向电光效应的低压大视场电光调制器

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911067706.9
  • IPC分类号:G02F1/03
  • 申请日期:
    2019-11-04
  • 申请人:
    中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
著录项信息
专利名称基于纵向电光效应的低压大视场电光调制器
申请号CN201911067706.9申请日期2019-11-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-04-17公开/公告号CN111025691A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/03IPC分类号G;0;2;F;1;/;0;3查看分类表>
申请人中国人民解放军战略支援部队航天工程大学申请人地址
北京市怀柔区八一路1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国人民解放军战略支援部队航天工程大学当前权利人中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
发明人杜小平;张朋;赵继广
代理机构北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)代理人郑久兴
摘要
本发明公开了一种基于纵向电光效应的低压大视场电光调制器。所述的电光调制器包括控制子系统、驱动器和周期性结构电光调制组件;以晶体的纵向电光效应为物理基础制作电光调制器,采用周期性结构电光调制组件降低调制器所需的驱动电压,利用补偿晶体消除入射角度引起的自然双折射的影响,确保电光调制器具有较大视场。本发明属于光调制技术领域,可应用于高速光开关、电光调Q、通信、成像等领域。

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