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画素基板及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410008757.5
  • IPC分类号:H01L21/77;H01L27/12
  • 申请日期:
    2014-01-06
  • 申请人:
    瀚宇彩晶股份有限公司
著录项信息
专利名称画素基板及其制造方法
申请号CN201410008757.5申请日期2014-01-06
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-07-08公开/公告号CN104766819A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/77IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人瀚宇彩晶股份有限公司申请人地址
中国台湾新北市五股区五权路48号4楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瀚宇彩晶股份有限公司当前权利人瀚宇彩晶股份有限公司
发明人游家华;康沐楷;胡宪堂;赵长明;赖瑞麒
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司代理人臧建明
摘要
本发明提供一种画素基板及其制造方法,其包括:提供基板;于基板上依序形成栅极、下接垫;形成覆盖栅极以及下接垫的闸绝缘层;以及于闸绝缘层上形成通道层以及第一电极层,通道层在基板上的投影面积重叠于栅极在基板上的投影面积。接着,于基板上形成蚀刻阻挡图案层;图案化蚀刻阻挡材料层的过程中,进一步在闸绝缘层形成接触开口,并暴露出下接垫。然后,于基板上依序形成源极、漏极以及上接垫;形成保护层;以及于保护层上形成具有多个狭缝的第二电极层,其中第一电极层与第二电极层其中一者电性连接于漏极。本发明公开的画素基板及其制造方法能够简化工艺步骤,且可节省制作时间。

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