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曝光显影方法和系统、曝光控制系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201410766896.4
IPC分类号：G03F7/20
申请日期：
2014-12-12
申请人：
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	曝光显影方法和系统、曝光控制系统
申请号	CN201410766896.4	申请日期	2014-12-12
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-03-04	公开/公告号	CN104391431A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人	余学权;徐先华;刘志;王志强;张伟;成学佩
代理机构	北京路浩知识产权代理有限公司	代理人	李相雨

摘要

本发明提供了一种曝光显影方法和系统，该方法用于在基板大于掩膜板时对基板的曝光显影，包括：利用所述掩膜板分别对基板多个不同区域进行曝光显影，所述多个不同区域拼接为需要曝光显影的区域。采用本发明提供的曝光显影方法，能够使得低世代生产线生产较大尺寸的彩膜基板，从而提高产线利用率，降低生产成本。

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