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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

投影装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200810001950.0
  • IPC分类号:G03B21/00;G03B21/14;G02B5/02;H04N9/31
  • 申请日期:
    2008-01-04
  • 申请人:
    中强光电股份有限公司
著录项信息
专利名称投影装置
申请号CN200810001950.0申请日期2008-01-04
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-07-08公开/公告号CN101477295
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03B21/00IPC分类号G;0;3;B;2;1;/;0;0;;;G;0;3;B;2;1;/;1;4;;;G;0;2;B;5;/;0;2;;;H;0;4;N;9;/;3;1查看分类表>
申请人中强光电股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中强光电股份有限公司当前权利人中强光电股份有限公司
发明人王俊勋
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人王英
摘要
一种投影装置,包括第一激光光源,提供具有高相干性的第一光束;第二激光光源,提供具有高相干性的第二光束;第三激光光源,提供具有高相干性的第三光束;合光元件,包括第一表面,其中,所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述合光元件,并在所述合光元件混成混成光束;扩散片,设在所述合光元件的所述第一表面上,供所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射;以及致动元件,连接所述合光元件,以致动所述合光元件,用于改变所述第一光束、所述第二光束和所述第三光束入射至所述扩散片的位置。

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