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晶片卡盘、其生产方法和曝光装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011048311.7
  • IPC分类号:H01L21/683;H01L21/027;C23C16/26;C23C16/50;G03F7/20
  • 申请日期:
    2020-09-29
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称晶片卡盘、其生产方法和曝光装置
申请号CN202011048311.7申请日期2020-09-29
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-02公开/公告号CN112599463A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;C;2;3;C;1;6;/;2;6;;;C;2;3;C;1;6;/;5;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人平林敬二
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人刘强
摘要
本发明涉及晶片卡盘、其生产方法和曝光装置。晶片卡盘包括由含有碳化硅的陶瓷制成的基底。该基底具有氧化处理层,并且在该基底的最外表面上形成有由类金刚石碳(DLC)制成的膜。

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