晶片单面抛光机主轴磨盘冷却装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201010583115.X
IPC分类号：B24B29/00;B24B55/02
申请日期：
2010-12-11
申请人：
昆明台兴精密机械有限责任公司

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专利名称	晶片单面抛光机主轴磨盘冷却装置
申请号	CN201010583115.X	申请日期	2010-12-11
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2011-06-15	公开/公告号	CN102091994A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B29/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B29/00 有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置（使用砂带磨削或抛光入B24B 21/00）〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;2;9;/;0;0;;;B;2;4;B;5;5;/;0;2查看分类表>
申请人	昆明台兴精密机械有限责任公司	申请人地址	云南省昆明市龙泉路663号昆明台兴精密机械有限责任公司变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	昆明台兴精密机械有限责任公司	当前权利人	昆明台兴精密机械有限责任公司
发明人	李明;陈明寿;杨理
代理机构	昆明今威专利代理有限公司	代理人	赵云

摘要

本发明为晶片单面抛光机的下抛光盘冷却装置，可解决抛光机下盘在旋转过程中的冷却问题，减少下盘机械加工中工艺难度，属于抛光机械技术领域。本冷却装置的抛光盘由上层不锈钢材质的下抛光盘和下层的冷却水盘连接而成，冷却水盘内侧加工有水槽，水槽的两端汇集在盘中心并分别连接排水管和进水管；排水管和进水管采用大小管相套的套叠结构，套管下端密封连接在带三通口的固定水管座上，另外两个通道分离的接口分别连接排水管接头和进水管接头。本发明可减少抛光过程中由于下抛光盘旋转与上抛光盘摩擦带来的热量，保证在长时间加工过程过程中大抛光盘温度可控，确保抛光产品的质量，延长了机床的寿命，保证机床精度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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