一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200410084794.0
IPC分类号：G01N21/59;G06F19/00
申请日期：
2004-12-01
申请人：
中国科学院上海技术物理研究所

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著录项信息

专利名称	一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法
申请号	CN200410084794.0	申请日期	2004-12-01
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-05-18	公开/公告号	CN1616948
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/59 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/17 入射光根据所测试的材料性质而改变的系统（其中所测试的材料因受到光学激发而引起入射光波长改变的入G01N 21/63）〔3〕 G01N21/59 透射率（G01N 21/25优先）〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;5;9;;;G;0;6;F;1;9;/;0;0查看分类表>
申请人	中国科学院上海技术物理研究所	申请人地址	上海市玉田路500号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海技术物理研究所	当前权利人	中国科学院上海技术物理研究所
发明人	王少伟;陆卫;陈平平;李宁;张波;李志锋;陈效双
代理机构	上海智信专利代理有限公司	代理人	郭英

摘要

本发明公开了一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法，该发明是基于F-P干涉原理进行设计的，即在两片完全相同的窄带通高反膜系之间夹一真空层或空气层作为谐振腔，构成一个品质因子非常高的超窄带通滤光片，利用带通位置处的透过率对谐振腔的吸收特别敏感的特性，只要将待测样品放在谐振腔内，谐振腔内会有微弱吸收，就会引起透过率发生明显的变化，通过透过率的变化及利用商用的膜系设计与计算软件Filmstar绘制的峰值透过率差值(ΔT)随消光系数(κ)变化的标准曲线，就可以推算出待测光学材料的消光系数，进而得出其吸收系数。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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