加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

制备高纯度磷化氢和其它气体的方法和装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN99810169.9
  • IPC分类号:C01B25/06;H05B6/50;A61L2/00;A47J37/08;C23C16/00
  • 申请日期:
    1999-07-06
  • 申请人:
    电子转移技术公司
著录项信息
专利名称制备高纯度磷化氢和其它气体的方法和装置
申请号CN99810169.9申请日期1999-07-06
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2001-11-21公开/公告号CN1323276
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B25/06IPC分类号C;0;1;B;2;5;/;0;6;;;H;0;5;B;6;/;5;0;;;A;6;1;L;2;/;0;0;;;A;4;7;J;3;7;/;0;8;;;C;2;3;C;1;6;/;0;0查看分类表>
申请人电子转移技术公司申请人地址
美国新泽西州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人电子转移技术公司当前权利人电子转移技术公司
发明人W·M·阿耶尔斯
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人罗才希
摘要
本发明描述了在半导体的生产和掺杂中所用的高纯度磷化氢气体或其它气体的生成的装置和方法。所述优选装置包括采用微波辐射来生成气体的设备、控制生成速率的设备(10)、纯化产物气体的设备以及用稀释气体可控混合所述气体至所需输送组合物的设备。通过这些设备,生成直接导入用于制造和掺杂半导体的工艺过程的、具有足够纯度、合适压力以及所需体积的气体。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供