加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

曝光方法、电子装置与主从式系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810901250.0
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-08-09
  • 申请人:
    印芯科技股份有限公司
著录项信息
专利名称曝光方法、电子装置与主从式系统
申请号CN201810901250.0申请日期2018-08-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-04-16公开/公告号CN109634063A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人印芯科技股份有限公司申请人地址
广东省广州市黄埔区科学大道18号A栋11楼1103单元 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人广州印芯半导体技术有限公司当前权利人广州印芯半导体技术有限公司
发明人张耕力
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司代理人吴志红;臧建明
摘要
本发明提供一种曝光方法、电子装置与主从式系统。电子装置包括图像获取电路以及耦接至图像获取电路的处理器。处理器取得曝光指令以及第一数量。处理器根据曝光指令,控制图像获取电路进行曝光以获取一图像。所述处理器判断所述图像的数量是否达到第一数量。当所述图像的数量未达到第一数量时,所述处理器再次执行控制图像获取电路进行曝光以获取所述图像的运作。当所述图像的数量达到第一数量时,处理器停止控制图像获取电路进行曝光。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供