一种掩膜板及其实现曝光接合的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201210545317.4
IPC分类号：G03F1/38;G03F7/20
申请日期：
2012-12-14
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司

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著录项信息

专利名称	一种掩膜板及其实现曝光接合的方法
申请号	CN201210545317.4	申请日期	2012-12-14
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-06-18	公开/公告号	CN103869602A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/38 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/38 具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;8;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
发明人	周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦
代理机构	北京派特恩知识产权代理有限公司	代理人	张颖玲;程立民

摘要

本发明公开了一种掩膜板及其实现曝光接合的方法，在该掩膜板上用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。因此，通过所述掩膜板进行曝光接合后，会在基板上形成具有特定位置关系的图形，可以根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校。本发明掩膜板及其实现曝光接合的方法，均可有效保证曝光接合的精度，因而避免了曝光接合不良的发生。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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