加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

套刻误差测量装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010129746.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2020-02-28
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称套刻误差测量装置及方法
申请号CN202010129746.8申请日期2020-02-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-31公开/公告号CN113325665A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人杨晓青
代理机构上海思捷知识产权代理有限公司代理人王宏婧
摘要
本发明提供一种套刻误差测量装置及方法,所述套刻误差测量装置包括照明单元、分光器件、光路折转单元、物镜、第一探测单元和数据处理器。所述照明单元提供的光照经所述分光器件第一光束和第二光束,所述第一光束经所述物镜传输至所述衬底上,并经所述衬底反射至所述分光器件中形成第三光束,所述第三光束传输至所述第一探测单元,所述第一探测器获取第二信号。所述第二光束经所述光路折转单元传输至所述分光器件,并经所述分光器件反射至所述第一探测单元,所述第一探测器获取第一信号。所述数据处理器根据所述第一信号对所述第二信号进行校准,以获得更为精准的套刻误差,进而提高套刻误差测量装置的检测性能,提高工作效率。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供