光学材料用组合物及其制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201480070439.X
IPC分类号：C08G75/06;G02B1/04;G02B3/00
申请日期：
2014-12-19
申请人：
三菱瓦斯化学株式会社

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引证文献

著录项信息

专利名称	光学材料用组合物及其制造方法
申请号	CN201480070439.X	申请日期	2014-12-19
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2016-08-10	公开/公告号	CN105849155A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08G75/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物（发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P）〔2〕 C08G75/00 在高分子主链中，由形成含硫的键合，有或没有氮、氧，或碳键合反应得到的高分子化合物〔2〕 C08G75/02 聚硫醚〔2，2016.01〕 C08G75/06 由环硫醚〔2〕	IPC分类号	C;0;8;G;7;5;/;0;6;;;G;0;2;B;1;/;0;4;;;G;0;2;B;3;/;0;0查看分类表>
申请人	三菱瓦斯化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱瓦斯化学株式会社	当前权利人	三菱瓦斯化学株式会社
发明人	堀田明伸;今川阳介;嘉村辉雄;堀越裕
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇;李茂家

摘要

根据本发明，通过含有下述(a)化合物、下述(b)化合物、(c)多硫醇、以及(d)硫的光学材料用组合物能够使自模具的脱模性良好并且能够抑制产生残留剥落痕迹这种不良。(a)化合物：具有下述(1)式所表示的结构的化合物(式中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)(b)化合物：具有下述(2)式所表示的结构的化合物(式中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)

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