流体流速稳定装置及研磨液供给装置

1.一种流体流速稳定装置，其特征在于：包括缓冲体和壳体，所述缓冲体的截面积大于所述壳体，所述缓冲体顶部具有流体入口，所述壳体底部具有流体出口，所述壳体内具有调整体，所述调整体包括上端固定的弹性连接部件，以及与弹性连接部件的下端相连的阀塞，且所述弹性连接部件以及阀塞与所述壳体之间均具有间隙，所述调整体内未形成封闭的空间，所述流体通过流体入口流入所述缓冲体内，再流入调整体及壳体内，并直接由调整体的周边经由所述壳体底部向所述流体出口流出。
2.如权利要求1所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述弹性连接部件由至少两根弹簧组成。
3.如权利要求2所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述弹簧固定于所述缓冲体的底部。
4.如权利要求2所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述弹簧为不锈钢材料。
5.如权利要求1所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述弹性连接部件由弹性纤维材料制成。
6.如权利要求1或5所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述弹性连接部件固定于所述缓冲体的顶部或所述壳体的侧壁上。
7.如权利要求1所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述缓冲体和所述壳体均为圆柱体形状。
8.如权利要求7所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述壳体底部为弧状。
9.如权利要求1所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述调整体的阀塞底部的形状与所述壳体底部的形状相匹配。
10.如权利要求1所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述阀塞由陶瓷、塑料或树脂制成；所述壳体由陶瓷、塑料或树脂制成。
11.如权利要求1所述的流体流速稳定装置，其特征在于：所述缓冲体的流体入口处还具有第一接口，所述壳体的流体出口处还具有第二接口。
12.一种研磨液供给装置，与研磨装置相连，包括研磨液容器和供给泵，以及分别与供给泵和所述研磨装置相连的流体流速稳定装置，其特征在于：所述流体流速稳定装置包括缓冲体和壳体，所述缓冲体的截面积大于所述壳体，所述缓冲体顶部具有流体入口，所述壳体底部具有流体出口，所述壳体内具有调整体，所述调整体包括上端固定的弹性连接部件，以及与弹性连接部件的下端相连的阀塞，且所述弹性连接部件以及阀塞与所述壳体之间均具有间隙，所述调整体内未形成封闭的空间，所述流体通过流体入口流入所述缓冲体内，再流入调整体及壳体内，并直接由调整体的周边经由所述壳体底部向所述流体出口流出。
13.如权利要求12所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述弹性连接部件由至少两根弹簧组成。
14.如权利要求13所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述弹簧固定于所述缓冲体的底部。
15.如权利要求13所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述弹簧为不锈钢材料。
16.如权利要求12所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述弹性连接部件由弹性纤维材料制成。
17.如权利要求12或16所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述弹性连接部件固定于所述缓冲体的顶部或所述壳体的侧壁上。
18.如权利要求12所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述缓冲体和所述壳体均为圆柱体。
19.如权利要求18所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述壳体的底部为弧状。
20.如权利要求12所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述调整体的阀塞底部的形状与所述壳体底部的形状相匹配。
21.如权利要求12所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述阀塞由陶瓷、塑料或树脂制成；所述壳体由陶瓷、塑料或树脂制成。
22.如权利要求12所述的研磨液供给装置，其特征在于：所述缓冲体的流体入口处还具有第一接口，所述壳体的流体出口处还具有第二接口。

流体流速稳定装置及研磨液供给装置\n技术领域\n[0001] 本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种流体流速稳定装置及研磨液供给装置。\n背景技术\n[0002] 随着超大规模集成电路ULSI(Ultra Large Scale Integration)的飞速发展，集成电路制造工艺的复杂性及精细性日益提高，对晶片表面的平整度要求也越来越严格，常需要在生产过程中对衬底表面进行平坦化处理。目前，最普遍的平坦化方法为化学机械研磨法(CMP，Chemical MechanicalPolishing)，尤其在半导体制作工艺进入亚微米(sub-micron)领域后，其已成为一项不可或缺的半导体制作工艺技术。\n[0003] 图1为说明化学机械研磨工作原理的示意图，如图1所示，化学机械研磨时，通过转动的研磨头101将衬底102以一定的压力压置于旋转的转盘上104的研磨垫103上，混有极小磨粒的研磨液105通过研磨液输送管106滴落于研磨垫103上，并在研磨垫103的传输和旋转离心力的作用下，均匀分布于其上，在衬底102和研磨垫103之间形成一层流体薄膜，流体中的化学成分与晶片产生化学反应，将不溶物质转化为易溶物质，然后通过磨粒的微机械摩擦将这些化学反应物从晶片表面去除，溶入流动的流体中带走，从而获得光滑无损伤的平坦化表面。在这一研磨过程中，如果研磨液的供给不稳定，将无法实现好的研磨效果。因此，具有稳定的研磨液供给装置是实现好的研磨质量的一个重要前提。\n[0004] 图2为现有的化学机械研磨法系统的示意图，如图2所示，该系统由研磨液供给装置200、研磨装置220与其之间的第一传输管路210组成，其中研磨液供给装置200又包括了研磨液容器201、供给泵203及其之间的第二传输管路202等部分。工作时，将研磨液放置于研磨液容器201中，利用供给泵203通过第二传输管路202将其抽出，并利用第一传输管路210将其传送至研磨装置220内。\n[0005] 为达到较好的研磨效果，得到平坦化程度较高的表面，要求研磨液供给装置210提供给研磨装置220的研磨液量要均匀一致。然而，由于用于抽取研磨液的供给泵203本身的工作特点，难以真正实现研磨液量供给的一致性：其工作过程中，在一压、一抽的转变之间，必然会产生一定的压力变化，这将使得传送至研磨装置230的研磨液量随之发生波动。\n希望能有一种流体流速稳定装置可以消除这一研磨液量的波动(或者说脉动)。\n[0006] 2006年6月21日公开的公开号为CN1790210A的中国专利申请公开了一种流速控制装置，其同时利用阀塞和多个流体通道内壁上的凸起消减流体压力的脉动，该流速控制装置的实现需要同时对传输管路进行较大的改动，实现起来较为复杂。\n发明内容\n[0007] 本发明提供一种流体流速稳定装置，可以改善现有的流体传输中出现的流速不稳的现象。相应地，本发明还提供一种研磨液供给装置，其可以提高现有的研磨液供给稳定性，消除供给的研磨液量的波动。本发明中的流体流速稳定装置既可以应用于半导体制造领域，也可以应用于一般的电子、机械等领域。\n[0008] 本发明提供的一种流体流速稳定装置，包括缓冲体和壳体，所述缓冲体顶部具有流体入口，所述壳体底部具有流体出口，所述壳体内具有调整体，所述调整体包括上端固定的弹性连接部件，以及与弹性连接部件的下端相连的阀塞，且所述弹性部件以及阀塞与所述壳体之间均具有间隙，所述流体通过流体入口流入所述缓冲体内，再流入调整体及壳体内，并从所述壳体底部的流体出口流出。\n[0009] 其中，所述弹性连接部件由至少两根弹簧组成，所述弹簧固定于所述缓冲体的底部。且所述弹簧可以为不锈钢材料。\n[0010] 其中，所述弹性连接部件由弹性纤维材料制成。\n[0011] 其中，所述弹性连接部件可以固定于所述缓冲体的顶部或所述壳体的侧壁上。\n[0012] 其中，所述缓冲体的截面积大于所述壳体，且所述缓冲体和所述壳体均为圆柱体形状。\n[0013] 其中，所述壳体底部为弧状。\n[0014] 其中，所述调整体的阀塞底部的形状与所述壳体底部的形状相匹配。\n[0015] 其中，所述阀塞由陶瓷、塑料或树脂中的任一种制成；所述壳体由陶瓷、塑料或树脂中的任一种制成。\n[0016] 其中，所述缓冲体的流体入口处还具有第一接口，所述壳体的流体出口处还具有第二接口。\n[0017] 本发明还提供了具有相同或相应技术特征的一种研磨液供给装置，其与研磨装置相连，包括研磨液容器和供给泵，以及分别与供给泵和所述研磨装置相连的流体流速稳定装置；且所述流体流速稳定装置包括缓冲体和壳体，所述缓冲体顶部具有流体入口，所述壳体底部具有流体出口，所述壳体内具有调整体，所述调整体包括上端固定的弹性连接部件，以及与弹性连接部件的下端相连的阀塞，且所述弹性部件以及阀塞与所述壳体之间均具有间隙，所述流体通过流体入口流入所述缓冲体内，再流入调整体及壳体内，并从所述壳体底部的流体出口流出。\n[0018] 其中，所述弹性连接部件可以由至少两根弹簧组成，所述弹簧固定于所述缓冲体的底部，所述弹簧可以为不锈钢材料。\n[0019] 其中，所述弹性连接部件可以由弹性纤维材料制成。\n[0020] 其中，所述弹性连接部件固定于所述缓冲体的顶部或所述壳体的侧壁上。\n[0021] 其中，所述缓冲体的截面积大于所述壳体。\n[0022] 其中，所述缓冲体和所述壳体均为圆柱体，且所述壳体的底部可以为弧状。\n[0023] 优选地，所述调整体的阀塞底部的形状与所述壳体底部的形状相匹配。\n[0024] 其中，所述阀塞由陶瓷、塑料或树脂中的任一种制成；所述壳体由陶瓷、塑料或树脂中的任一种制成。\n[0025] 其中，所述缓冲体的流体入口处还具有第一接口，所述壳体的流体出口处还具有第二接口。\n[0026] 与现有技术相比，本发明具有以下优点：\n[0027] 本发明的流体流速稳定装置，安装于传输流体的管路上，流体通过缓冲体进入调整体(或壳体)内，经过壳体底部流出。由于在壳体内安装的调整体由弹性连接部件及阀塞组成，随着流体流速的变化，调整体受到的冲击力发生改变，其底部的阀塞与壳体底部间的位置关系(或者说壳体底部流体流经的通路大小)也随之发生变化，该变化对流体流速的影响趋势与流体原本的流速的变化趋势正好相反，起到了稳定流体流速的作用。本发明的流体流速稳定装置，利用调整体感应传输流体的流速，自动调整流体流经的通路大小，有效消除了流体流动过程中的波动，改善了流体流速不稳定的现象。\n[0028] 本发明的研磨液供给装置，通过在供给泵与研磨装置之间安装流体流速稳定装置，克服了因供给泵的压力变化导致的研磨液供给发生波动的问题，提高了研磨质量。\n附图说明\n[0029] 图1为说明化学机械研磨工作原理的示意图；\n[0030] 图2为现有的化学机械研磨法系统的示意图；\n[0031] 图3为本发明第一实施例中的流体流速稳定装置示意图；\n[0032] 图4为本发明第二实施例中的流体流速稳定装置示意图；\n[0033] 图5为本发明第三实施例中的流体流速稳定装置示意图；\n[0034] 图6为本发明第四实施例中的研磨系统示意图。\n具体实施方式\n[0035] 为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。\n[0036] 本发明的流体流速稳定装置可以被广泛地应用于各个领域中，并且可利用许多适当的材料制作，下面是通过具体的实施例来加以说明，当然本发明并不局限于该具体实施例，本领域内的普通技术人员所熟知的一般的替换无疑地涵盖在本发明的保护范围内。\n[0037] 其次，本发明利用示意图进行了详细描述，在详述本发明实施例时，为了便于说明，表示装置结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，不应以此作为对本发明的限定，此外，在实际的制作中，应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。\n[0038] 为提高对流体流速的控制度，本发明提出了一种新的流体流速稳定装置，其连接于传输管路内，包括缓冲体，壳体，所述壳体内还具有可稳定流速(流量)的调整体；该调整体由弹性连接部件连接阀塞组成，且所述调整体的弹性连接部件及阀塞与壳体之间均留有间隙。该阀塞底部的形状与所述壳体的底部可以相匹配，以更好地对流体的流速进行调控。\n[0039] 工作时，传输管路内的流体先通过缓冲体的流体入口到达缓冲体中，再进入调整体(或壳体)，经过壳体底部的流体出口流出。其中，流体受到壳体内调整体的阀塞的阻挡，会对调整体的弹性连接部件产生一定的冲击力，且该冲击力会随着流体流速的变化而变化，使得调整体的弹性连接部件随着该冲击力的变化发生相应的形变，其所连接的阀塞的位置也就发生了相应的移动，进而改变了壳体底部流体流经的通路的大小。该通路大小的变化对流速的影响趋势与流体流速的变化趋势正好相反，起到了稳定流体流速的作用。\n[0040] 图3为本发明第一实施例中的流体流速稳定装置示意图，如图3所示，该流体流速稳定装置主要由缓冲体301、壳体302组成，且所述壳体内还具有调整体(包括由弹簧303组成的弹性连接部件及由阀塞304形成的调整体的底部)。缓冲体301的顶部和壳体302的底部分别具有流体入口和流体出口，其对应安装了用于与外管路相连的第一接口305和第二接口306。图3中单箭头311表示了流体在流体流速稳定装置内的流向，双箭头312表示了调整体的阀塞304的运动方向。\n[0041] 如图3中的311箭头所示，流体在流经本实施例中的流体流速稳定装置时，先经由第一接口305到达缓冲体301，在此进行一定的缓冲，再由缓冲体301底部的开口到达调整体内。本实施例中，调整体的弹性连接部件303位于缓冲体301底部的开口之外，，因此由缓冲体301流出的流体会直接进入调整体内，但由于本实施例中调整体的弹性连接部件由弹簧303组成，并未形成封闭的空间，流体在进入调整体后，受到其底部阀塞的阻挡，会直接由周边经由壳体302的底部向壳体302底部的第二接口306流去。\n[0042] 同时，弹簧303受到了流经的流体的冲击，其底部的阀塞304也向壳体302底部靠近，当流体的流速一定时，弹簧303所受到的冲击力不变，阀塞304的位置也不变，壳体302底部的流体通路大小也就不变。但当流体的流速发生变化时，由于弹簧303所受的冲击力随之改变，阀塞304的位置也会沿图3中双箭头312所示的轨迹发生相应的变化，流体流经壳体302底部时的通路的大小也就相应地改变了。\n[0043] 以在流速为100L/min的传输管路上应用的本发明的流体流速稳定装置为例，说明本实施例中的流体流速稳定装置的具体设计思路：根据弹簧303的弹性系数等性能参数，确定弹簧303的长度、阀塞304及壳体302底部的形状，令流速为100L/min时的流体流过时，弹簧303发生的相应变形，使流体通过壳体302底部向第二接口306流动时的流速不受限制(与在进入缓冲体301前的流速一致)。这样，当实际流体的流速小于100L/min时，弹簧303发生的形变相对较小，壳体底部的通路就相应变大，加快流体向壳体底部的流动，在一定程度上提高了流体的流速(注意到其中缓冲体起到的作用)；当实际流体的流速大于100L/min时，弹簧303发生的形变相对较大，壳体302底部的通路相应变小，减缓了流体向壳体底部的流动，在一定程度上降低了流体的流速。\n[0044] 本实施例中，组成弹性部件的弹簧数量可以不限，为了达到一定的稳定性，通常可将其设定为至少两根，如2根、3根、4根等。该弹簧303可以由多种材料制成，如铝、铁等，对于所传输的流体为腐蚀性材料的，还可以采用不锈钢材料等。另外，该弹簧303可以直接采用焊接、铆接等方式固定于缓冲体的底部，为了达到更为稳定的效果，可以令该多个弹簧沿缓冲体底部开口的圆周边缘均匀分布。\n[0045] 本实施例中，缓冲体301、壳体302为圆柱体形状，只是截面积不同。如图3中所示，缓冲体301的截面积较大，至少大于第一接口305(或本图中未示出的第一管路)、第二接口306(或本图中未示出的第二管路)和壳体302的截面积。截面积较大的缓冲体可以对所传输的流体起一定的缓冲作用，提高流速的稳定效果。另外，在本发明的其它实施例中，还可以将缓冲体、壳体设计为方形、椭球形、圆台形、倒圆台形等其它形状。\n[0046] 本实施例中，将壳体302与第二接口306之间设计为弧状的圆滑连接，以便于流体流过。将调整体底部的阀塞304的形状设计得与该弧状的壳体底部相匹配，以确保其能够更好地随着由弹簧303的拉伸程度调整壳体底部流体流过的通路的大小。\n[0047] 本实施例中，该阀塞304和壳体302均可由多种材料制成，如陶瓷、塑料或树脂等。\n[0048] 可以看到，采用本发明的流体流速稳定装置后，在一定程度上缓解了流体流速不稳定的现象，消除了流体流动过程中出现的流速的波动，对于因供给泵固有的压力变化引起的流速不稳定现象，有着明显的改善作用。\n[0049] 本实施例中，缓冲体301底部的开口直径不大于调整体的直径，在本发明的其它实施例中，还可以令缓冲体底部的开口直径大于调整体的直径，令流经本发明的流体流速稳定装置的流体同时注入调整体、以及调整体与壳体间的间隙内。\n[0050] 图4为本发明第二实施例中的流体流速稳定装置示意图，如图4所示，该流体流速稳定装置主要由缓冲体401、壳体402组成，壳体402内还具有调整体(包括弹性连接部件\n403和阀塞404)，缓冲体401的顶部和壳体402的底部分别具有流体入口和流体出口，其对应安装了用于与外管路相连的第一接口405和第二接口406。图4中单箭头411表示了流体在流体流速稳定装置内的流向，双箭头412表示了调整体的阀塞304的运动方向。\n[0051] 本实施例中，该调整体的弹性连接部件403的所用的弹性材料既可以是密封性较好的材料，也可以是带有一定孔隙或缝隙的材料，如可以是由弹性纤维形成的薄膜材料等。\n此时，本实施例中的调整体弹性连接部件的密封性要高于第一实施例中所用的由弹簧组成的调整体弹性连接部件，不适于采用第一实施例中的令流体全部直接流至调整体内，再流向调整体外的方法。为此，本实施例中将壳体402与调整体弹性连接部件403之间的间隙设计为直接与缓冲体401相通。\n[0052] 如图4中的411箭头所示，流体在流经本实施例中的流体流速稳定装置时，先经由第一接口405到达缓冲体401，在此进行一定的缓冲，再由缓冲体401底部的开口分两路分别到达调整体及壳体402内。本实施例中，缓冲体401底部的开口直径要大于调整体的直径(本实施例中指由弹性材料403形成的筒状弹性连接部件的直径)。其中一部分流体流至调整体内，用于根据流速调整阀塞404的位置；另一部分则直接由壳体402与调整体间的间隙流向第二接口406。\n[0053] 另外，对于调整体的弹性连接部件403，其受到流体的冲击后，向壳体底部(或者说第二接口406处)拉伸，这样，其底部的阀塞404也就相应地向第二接口406靠近。当流体的流速一定时，弹性连接部件403所受到的冲击力大小一定，阀塞404的位置也固定不变，壳体402底部的流体通路大小也就不变。但当流体的流速发生变化时，由于弹性连接部件403所受的冲击力随之改变，阀塞404的位置也会沿图4中双箭头412所示的轨迹发生相应的变化，改变了流体流经壳体402底部时的通路的大小，上述通路大小的变化对流速产生的影响趋势与流体流速本身的变化趋势正好相反，起到了稳定流体流速的作用。\n[0054] 本实施例中，调整体的弹性连接部件位于缓冲体的开口内，不能和第一实施例中的调整体一样直接固定于缓冲体的底部，可以采用焊接或铆接等方式将其固定于缓冲体的顶部或壳体的侧壁上。如图4中420所示，本实施例中，利用若干个细丝采用焊接的方式将调整体的弹性连接部件固定于了缓冲体401的顶部，该细丝可以由多种材料组成，只要不会被流经的流体所腐蚀即可。注意到，该调整体弹性连接部件的安装位置并不一定要与缓冲体的底部开口齐平，既可以略高，也可以略低于该开口。\n[0055] 本实施例中，缓冲体401、壳体402和调整体均为圆柱体形状，只是截面积不同。如图4中所示，缓冲体401的截面积较大，至少大于第一接口405(或本图中未示出的第一管路)、第二接口406(或本图中未示出的第二管路)和壳体402。截面积较大的缓冲体401可以对所传输的流体起一定的缓冲作用，更好地实现对流速的稳定。\n[0056] 本实施例中，将壳体402与第二接口406之间设计为弧状的圆滑连接，以便于流体流过。将调整体底部的阀塞404的形状设计得与该弧状的壳体底部相匹配，以确保其能够更好地随着由弹性连接部件403的拉伸程度调整壳体底部流体流过的通路的大小。\n[0057] 本实施例中，该阀塞404和壳体402均可由多种材料制成，如陶瓷、塑料或树脂等。\n[0058] 在设计本实施例中的流体流速稳定装置时，同样可以根据弹性材料403的弹性系数等性能参数判定流速变化量与弹性连接部件拉伸量(阀塞404的位置)的关系，进而决定壳体底部与阀塞的形状，以及静止时阀塞与壳体底部间的位置关系(弹性材料的长度)等。\n[0059] 图5为本发明第三实施例中的流体流速稳定装置示意图，如图5所示，其同样由缓冲体501和壳体502组成，且壳体502内还具有调整体。缓冲体501的顶部和壳体502的底部分别具有流体入口和流体出口，其对应安装了用于与外管路相连的第一接口505和第二接口506。\n[0060] 但该第三实施例中的流体流速稳定装置的调整体在采用了与第二实施例相似的较为封闭的筒状的弹性连接部件503的设计方法后，如图5中520所示，仍将调整体的弹性连接部件安装于了缓冲体501的底部(在本发明的其实施例中，也可以利用细丝将该弹性连接部件连接于壳体的侧壁上)，同时，为了使流体能流至壳体502底部，采用了将调整体的筒状弹性连接部件设计得较低的方式，令流经的流体可以通过壳体502与调整体顶部间的间隙流出。\n[0061] 如图中511单箭头所示，本实施例中，流体由第一接口505流至缓冲体501内，其中一部分用于对调整体产生冲击，调整其底部阀塞504的位置(按图5中双箭头512的轨迹运动)，另一部分则通过壳体502与调整体顶部间的间隙流至壳体底部，同样可以实现自动稳定流体流速的目的。\n[0062] 在本发明上述实施例的启示下，本领域的普通技术人员还可以得到更多的具有相同设计思路的流体流速稳定装置，如，还可以在壳体底部的液体出口处，沿其圆周利用至少两根刚性材料制成支架，再利用该支架上端固定调整体的弹性连接部件等，这一应用的延伸对于本领域普通技术人员而言是易于理解和实现的，其均应属于本发明的保护范围之内，在此不再赘述。\n[0063] 此外，还可以将本发明的流体流速稳定装置设置于研磨系统中，形成新的研磨液供给装置，用于提高研磨液供给的稳定性，这对研磨质量而言非常重要。\n[0064] 图6为本发明第四实施例中的研磨系统示意图，如图6所示，该研磨液供给装置\n600用于给研磨装置提供流量(流速)稳定的研磨液。其包括研磨液容器601和供给泵\n603，以及分别与供给泵603和研磨装置610相连通的流体流速稳定装置604。\n[0065] 其中，流体流速稳定装置604可以包括与所述供给泵603相连的缓冲体，与所述缓冲体、所述研磨装置610相连的壳体，以及位于所述壳体内的调整体；所述调整体由弹性连接部件连接一个阀塞组成，且所述弹性连接部件及所述阀塞与壳体之间均留有间隙。该流体流速稳定装置604的具体结构可以为前面三个实施例中的任一种，也可以是具有相同设计思路的其它结构。\n[0066] 本发明的上述研磨液供给装置，通过在供给泵与研磨装置之间安装流体流速稳定装置，克服了因供给泵固有的压力变化导致的研磨液供给不稳定的问题，消除了研磨液供给过程中出现的研磨液流量(或者说流速)的波动，提高了研磨质量。\n[0067] 本发明虽然以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以做出可能的变动和修改，因此本发明的保护范围应当以本发明权利要求所界定的范围为准。