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一种交联阴离子膜及其制备方法和应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010563791.0
  • IPC分类号:H01M8/02;H01M2/16;C08J3/24;C08J5/22;C08K5/31
  • 申请日期:
    2010-11-29
  • 申请人:
    中国科学院大连化学物理研究所;大连融科储能技术发展有限公司
著录项信息
专利名称一种交联阴离子膜及其制备方法和应用
申请号CN201010563791.0申请日期2010-11-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-05-30公开/公告号CN102479962A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01M8/02IPC分类号H;0;1;M;8;/;0;2;;;H;0;1;M;2;/;1;6;;;C;0;8;J;3;/;2;4;;;C;0;8;J;5;/;2;2;;;C;0;8;K;5;/;3;1查看分类表>
申请人中国科学院大连化学物理研究所;大连融科储能技术发展有限公司申请人地址
辽宁省大连市高新技术产业园区信达街22号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人大连融科储能技术发展有限公司当前权利人大连融科储能技术发展有限公司
发明人张华民;曲超;张凤祥;邱艳玲
代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司代理人马驰
摘要
本发明公开了一种高性能交联型阴离子膜及其制备方法,所述阴离子膜由含苄基卤基团的聚合物通过双胍或多胍交联制备而成,该类膜可应用于燃料电池和酸性电解质液流储能电池中。膜结构更加紧密,形变、含水率较低,离子选择性好,由于正电荷分布更加分散,热稳定性,耐氧化稳定性更好。双胍或多胍交联阴离子膜的强碱性,能更好地阻隔全钒液流储能电池中钒离子的迁移,同时交联能抑制溶胀,能进一步抑制钒离子的迁移,提高电池的库仑效率至99%以上,表现出高稳定性、高电导率和低溶胀率。

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