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光刻胶涂覆设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201220575490.4
  • IPC分类号:G03F7/16
  • 申请日期:
    2012-11-02
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称光刻胶涂覆设备
申请号CN201220575490.4申请日期2012-11-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/16IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;6查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
发明人赵娜;王守波;王文龙;操彬彬
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司代理人申健
摘要
本实用新型公开了一种光刻胶涂覆设备,涉及半导体工艺技术领域,为了解决现有技术对待涂覆的基板涂覆光刻胶时,其上沾染的异物会导致各种不良情况的发生。该光刻胶涂覆设备,包括固定在喷嘴平动装置下方的涂覆喷嘴,还包括除异物装置,位于待涂覆基板上方,用于在使用涂覆喷嘴向待涂覆基板上表面涂胶的同时,向待涂覆基板上表面的未涂胶部分喷射气体,以使异物沿喷嘴平动装置的运动方向脱离待涂覆基板。

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