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彩膜基板及其制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910244185.X
IPC分类号：G02F1/1335;G02F1/1339;G03F7/00
申请日期：
2009-12-30
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	彩膜基板及其制造方法
申请号	CN200910244185.X	申请日期	2009-12-30
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2011-07-06	公开/公告号	CN102116960A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1335 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/1333 构造上的设备（G02F 1/135，G02F 1/136优先）〔5〕 G02F1/1335 与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器、反射器〔5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;3;5;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;9;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人	杨慧光;朴进山;朴承翊;杨玉清
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	黄志华

摘要

本发明提供一种彩膜基板及其制造方法。本发明提供的彩膜基板及其制造方法，通过将黑矩阵结构的制备工艺和柱状隔垫物的制备工艺合并为一步完成，使得工艺步骤更加简单，制造方法简便，降低成本。同时由于柱状隔垫物与黑矩阵结构成为整体，提高了稳定性，改善了现有技术中由于柱状隔垫物位置偏移造成的漏光问题，提高了液晶面板的品质。

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