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一种液氮射流状态稳定流量的调控方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201710535356.9
  • IPC分类号:F17C7/02;F17C13/02;F17C13/00;F17C13/04;F17D1/00;F17D1/08;F17D3/01;F17D3/18
  • 申请日期:
    2017-07-04
  • 申请人:
    大连理工大学
著录项信息
专利名称一种液氮射流状态稳定流量的调控方法
申请号CN201710535356.9申请日期2017-07-04
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2017-11-24公开/公告号CN107388032A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F17C7/02IPC分类号F;1;7;C;7;/;0;2;;;F;1;7;C;1;3;/;0;2;;;F;1;7;C;1;3;/;0;0;;;F;1;7;C;1;3;/;0;4;;;F;1;7;D;1;/;0;0;;;F;1;7;D;1;/;0;8;;;F;1;7;D;3;/;0;1;;;F;1;7;D;3;/;1;8查看分类表>
申请人大连理工大学申请人地址
辽宁省大连市甘井子区凌工路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人大连理工大学当前权利人大连理工大学
发明人王永青;刘海波;王晋宇;韩灵生;袁凯;袭萌萌;郭立杰;任斐;郭东明
代理机构大连理工大学专利中心代理人关慧贞
摘要
本发明一种液氮射流状态稳定流量的调控方法属于低温工程领域,涉及一种液氮射流状态稳定流量的调控方法。该方法对液氮射流状态稳定流量的调节是利用绝热管路降低漏热,使两相流气体质量分数调控在一定的范围内,降低液氮在输送过程中的气化比例,获得允许范围内的稳定输出结果;通过实时监测液氮输送流量,利用PID调控方法实现液氮流量调节及稳定输出。该方法对低温介质加工中的低温流体进行有效的稳定调控,降低了液氮在管路输送中的干度,提高了液氮超低温切削时流体的利用率。液氮输送装置结构紧凑,采用真空管路,降低了管路中的热损失;减小了液氮气化速率,降低了两相流气体质量分数,稳定了液氮射流状态,实现了液氮流量的精确调控。

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