曝光装置

发明专利无效专利

申请号：
CN02108207.3
IPC分类号：--
申请日期：
2002-03-27
申请人：
尼康株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	曝光装置
申请号	CN02108207.3	申请日期	2002-03-27
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2002-11-13	公开/公告号	CN1379286
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	尼康株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	尼康株式会社	当前权利人	尼康株式会社
发明人	白数广;木内徹
代理机构	北京集佳专利商标事务所	代理人	王学强

摘要

一种曝光装置可高精确度地维持光罩与感光基板之间的平行度,并将光罩上的图案正确地投影曝光于感光基板上。由照明光学投影系统(30)照明光罩(10)上所形成的图案再经由投影光学系统(40)投影于感光基板(20)上且光罩(10)与感光基板(20)相对于投影光学系统(40)朝所定的扫描方向进行同步扫描而使图案曝光于感光基板(20)上的曝光装置(1)具有位于光罩(10)上方且可由负压将前述光罩朝上方吸引的吸引装置(50)。吸引装置(50)配置于照明光学系统(30)的附近,且具有与光罩对向的多个吸引垫(51A～51E)。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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