基于场景的两点非均匀性校正方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201811328758.2
IPC分类号：G01J5/00
申请日期：
2018-11-09
申请人：
浙江传媒学院

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基于场景的两点非均匀性校正方法
申请号	CN201811328758.2	申请日期	2018-11-09
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2019-02-12	公开/公告号	CN109323766A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01J5/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01J 红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法〔2〕 G01J5/00 辐射高温测定法	IPC分类号	G;0;1;J;5;/;0;0查看分类表>
申请人	浙江传媒学院	申请人地址	浙江省杭州市下沙高教园区学源街998号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江传媒学院	当前权利人	浙江传媒学院
发明人	穆绍硕;姜燕冰;张解放
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种基于场景的两点非均匀性校正方法，属于红外焦平面成像领域，解决了现有的非均匀性校正方法存在的校正精度低和复杂度高的问题。首先，采集并存储F帧原始图像；其次，逐像素对灰度值按大小排序，存储排序后的帧图像；然后，抽取第帧和第帧两帧图像；最后，利用两点校正法求解校正系数矩阵，再根据求解的校正系数矩阵计算校正后的图像。本发明不需要预存校正系数，不需要中断正常成像过程，解决了辐射响应随时间漂移的问题。本发明校正精度高，鲁棒性强，时间和空间复杂度低，有着广泛的应用前景。

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