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一种用于反应室的晶片传动装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201922123814.5
  • IPC分类号:H01L21/677;H01L21/687;H01L21/67
  • 申请日期:
    2019-12-02
  • 申请人:
    浙江求是半导体设备有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司
著录项信息
专利名称一种用于反应室的晶片传动装置
申请号CN201922123814.5申请日期2019-12-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/677IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人浙江求是半导体设备有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司申请人地址
浙江省杭州市余杭区东湖街道钱江经济开发区龙船坞路96号2幢3层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江求是半导体设备有限公司,浙江晶盛机电股份有限公司当前权利人浙江求是半导体设备有限公司,浙江晶盛机电股份有限公司
发明人沈文杰;朱亮;董医芳;祝广辉;汤承伟;俞城;麻鹏达;周航;章杰峰
代理机构杭州中成专利事务所有限公司代理人周世骏
摘要
本实用新型涉及半导体制造设备技术领域,具体涉及一种用于反应室的晶片传动装置。包括均为内部中空的方形腔体结构的反应室与搬运室,二者之间通过闸阀连通,反应室内设有晶片支撑部件,搬运室内设有机械传送部件;晶片支撑部件包括内环基座和外环基座;内环基座主体为圆盘,圆盘下端面设有同心凸台,内环基座整体纵向横截面呈T型;外环基座呈圆环型,外环基座的内圈为台阶状,内圈台阶尺寸与内环基座外缘尺寸相适配,内环基座嵌设于外环基座内。内环基座下方设有内环支撑架,内环支撑架与升降机构相连;外环基座下方设有外环支撑架,外环支撑架与旋转机构相连。本实用新型操作简单,传送稳定性更好,掉片率更低,满足不同尺寸的晶片的传送需求。

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