平板显示器的大型高纯钼平面靶材的生产工艺方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110337933.6
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/14
申请日期：
2011-11-01
申请人：
洛阳高新四丰电子材料有限公司

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专利名称	平板显示器的大型高纯钼平面靶材的生产工艺方法
申请号	CN201110337933.6	申请日期	2011-11-01
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2012-03-28	公开/公告号	CN102392222A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;4查看分类表>
申请人	洛阳高新四丰电子材料有限公司	申请人地址	河南省洛阳市高新开发区东马沟工业园区2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	洛阳高新四丰电子材料有限公司	当前权利人	洛阳高新四丰电子材料有限公司
发明人	赵文普;赵士刚;王健
代理机构	洛阳明律专利代理事务所	代理人	智宏亮

摘要

本发明涉及一种平面高纯钼靶材的生产技术，提出一种显示器的大型高纯钼平面靶材的生产工艺方法；包括：钼粉分析，选粉，配粉：装模；压制；烧结；轧制；退火；铣宽度；线切割端面及倒角；磨床加工。本发明生产工艺方法所加工的平面高纯钼靶材具有如下有益效果：钼靶材的长度可达2700mm以上；Mo的含量≥99.95%；相对密度≥99%；晶粒结构均匀；其平面度小于0.05；表面粗糙度为Ra0.2；表面没有裂纹、起皮、折叠、压痕、压坑、金属或非金属压入物等缺陷；靶材内部裂纹的长度不大于0.04mm，没有气泡及大结晶。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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