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化学增幅正型光阻组合物及光阻图案形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910262157.0
  • IPC分类号:G03F7/039;G03F7/00
  • 申请日期:
    2009-12-25
  • 申请人:
    信越化学工业株式会社
著录项信息
专利名称化学增幅正型光阻组合物及光阻图案形成方法
申请号CN200910262157.0申请日期2009-12-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-06-30公开/公告号CN101762981A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/039IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人信越化学工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人信越化学工业株式会社当前权利人信越化学工业株式会社
发明人田中启顺;武田隆信;渡边聪
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人吴小瑛;李英艳
摘要
本发明涉及一种化学增幅正型光阻组合物,是用以形成在光刻中使用的化学增幅光阻膜,该化学增幅正型光阻组合物的特征在于:至少含有:(A)基质树脂,是碱不溶性或碱难溶性的树脂,具有酚性羟基被叔烷基所保护的重复单元,且当前述叔烷基脱离时,变成碱可溶性;(B)酸产生剂;(C)碱性成分;及(D)有机溶剂;且,以通过旋转涂布来获得具有10~100nm的膜厚的前述化学增幅光阻膜的方式调整固体成分浓度。根据本发明,可提供一种化学增幅正型光阻组合物,在光刻中,可在形成10~100nm的膜厚时,一边抑制由于化学增幅光阻膜薄膜化而造成的LER恶化,一边获得高解析性;及提供一种使用此光阻组合物的光阻图案形成方法。

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