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一种像素化转光层及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010186060.2
  • IPC分类号:H01L33/50H01L51/56H01L27/32
  • 申请日期:
    2020-03-17
  • 申请人:
    致晶科技(北京)有限公司;北京理工大学
著录项信息
专利名称一种像素化转光层及其制备方法
申请号CN202010186060.2申请日期2020-03-17
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-17公开/公告号CN113410370A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/50IPC分类号H01L33/50;H01L51/56;H01L27/32查看分类表>
申请人致晶科技(北京)有限公司;北京理工大学申请人地址
北京市海淀区中关村南大街5号二区683栋8层*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人致晶科技(北京)有限公司,北京理工大学当前权利人致晶科技(北京)有限公司,北京理工大学
发明人钟海政;孟令海;施立甫;王晶晶;李劲
代理机构北京元周律知识产权代理有限公司代理人张梅娟
摘要
本发明公开了一种像素化转光层及其制备方法,所述方法至少包括:获得含有像素槽的基板;将含有发光材料前驱体的溶液转移到基板的像素槽内,发光材料前驱体原位生成发光材料,得到填充发光材料的基板;在上述基板表面涂覆封装材料,得到像素化转光层。本发明只需将发光材料前驱体直接填入基板像素槽内,封装,即可实现钙钛矿纳米晶的像素化图案制备,省去了后续的打印和封装工序,降低了成本,得到的封装好的图案化钙钛矿纳米晶可以作为彩色转光层,低成本实现了显示器件的彩色化显示。本发明提供了一种新的面向显示的钙钛矿纳米晶图案化技术,无需配制专门的钙钛矿纳米晶墨水,也无需复杂的打印设备。

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