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两步氮化法制备多孔氮化铝微粒或多孔氮化镓微粒的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110156819.3
  • IPC分类号:C01B21/072;C01B21/06;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2011-06-14
  • 申请人:
    西安理工大学
著录项信息
专利名称两步氮化法制备多孔氮化铝微粒或多孔氮化镓微粒的方法
申请号CN201110156819.3申请日期2011-06-14
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2011-12-28公开/公告号CN102295276A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B21/072IPC分类号C;0;1;B;2;1;/;0;7;2;;;C;0;1;B;2;1;/;0;6;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人西安理工大学申请人地址
陕西省西安市金花南路5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安理工大学当前权利人西安理工大学
发明人颜国君
代理机构西安弘理专利事务所代理人李娜
摘要
本发明公开了一种两步氮化法制备多孔AlN或多孔GaN微粒的方法,先将配好的原料放入坩埚,然后连同坩埚一起放入加热炉,进行合金的熔炼,再将合金冷却后进行破碎,把粉碎的合金粉末颗粒放入反应炉中。对反应炉抽真空并充入高纯氮气,加热合金粉末到500~750℃进行第一次氮化紧接着升温到850~1100℃进行第二次氮化,最后把氮化结束的合金粉末颗粒用酸浸泡,去除其中的B组分合金的氮化物,获得了多孔的A组分的氮化物,即多孔AlN微粒或多孔GaN微粒。本发明方法制备出孔直径为一百纳米到几十微米、颗粒粒径大小在几百纳米~几百微米数量级范围内、比表面积可达100m2/g的多孔AlN或GaN微粒。

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