光学基片隐形图案的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910111753.9
IPC分类号：G02C7/02;G02C7/10
申请日期：
2009-05-07
申请人：
厦门美澜光电科技有限公司

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引证文献

著录项信息

专利名称	光学基片隐形图案的制备方法
申请号	CN200910111753.9	申请日期	2009-05-07
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-10-07	公开/公告号	CN101551527
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02C7/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02C 眼镜；太阳镜或与眼镜有同样特性的防护镜；隐形眼镜 G02C7/00 光学部件（按材料区分的入G02B 1/00） G02C7/02 透镜；透镜系统	IPC分类号	G;0;2;C;7;/;0;2;;;G;0;2;C;7;/;1;0查看分类表>
申请人	厦门美澜光电科技有限公司	申请人地址	福建省厦门市海沧区翁角路289号海投科创中心3#楼3层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	厦门美澜光电科技有限公司	当前权利人	厦门美澜光电科技有限公司
发明人	杨敏男
代理机构	厦门市诚得知识产权代理事务所	代理人	方惠春;刘辉

摘要

本发明公开一种光学基片隐形图案的制备方法，属于光学镜片上设置图案类制造技术领域。本发明是将光学基片镀隐形图案的制备方法，基片清洁后，将所需要的镂空图案模板贴于基片上，基片固定于治具然后放置于真空度抽至至少5*10-5Torr的高真空机台内；通过离子束轰击镂空部分的基片表层(轰击时间大约3-15分钟)，使镂空部分基片表层变薄，基片变薄部分比其他部分的折射率低，从而形成基片上隐形图案。此镂空部分基片由于折射率低，而且厚度相对较薄，因而不易被肉眼所看到，而当遇到蒸汽时，图案部分就会出现雾状，呈现出来图案。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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