显示面板的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110812792.2
IPC分类号：H01L51/56
申请日期：
2021-07-19
申请人：
武汉华星光电半导体显示技术有限公司

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著录项信息

专利名称	显示面板的制备方法
申请号	CN202110812792.2	申请日期	2021-07-19
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-09	公开/公告号	CN113629217A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L51/56 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L51/20 （转入H01L 51/05，H01L 51/42，H01L 51/50） H01L51/50 专门适用于光发射的，如有机发光二极管（OLED）或聚合物发光器件（PLED）（有机半导体激光器入 H01S 5/36）〔8〕 H01L51/56 专门适用于制造或处理这种器件或其部件的方法或设备〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;5;1;/;5;6查看分类表>
申请人	武汉华星光电半导体显示技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电半导体显示技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人	匡友元
代理机构	深圳紫藤知识产权代理有限公司	代理人	邓敬威

摘要

本申请实施例提供一种显示面板的制备方法；该制备方法通过在衬底基板的第一侧形成第一发光功能部，其次在衬底基板与第一侧相对的第二侧形成牺牲层，以及在牺牲层上设置卡盘，以使卡盘与牺牲层粘合，然后在第一发光功能部上形成第二发光功能部，最后将卡盘与衬底基板分离；上述显示面板的制备方法通过物理或者化学手段改变牺牲层的特性，使牺牲层与衬底基板脱离，避免了对衬底基板进行运载时采用等离子表面处理工艺而导致对显示面板的部分发光功能层产生损伤，解决了大尺寸显示面板因为基板下垂引起的破片、显示亮度不均匀等问题，提升了显示面板的良率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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