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有机场效应晶体管

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200880007765.0
  • IPC分类号:H01L51/05;H01L51/10;H01L51/00
  • 申请日期:
    2008-01-23
  • 申请人:
    罗纳德·厄斯特巴卡;卡尔-埃里克·维伦
著录项信息
专利名称有机场效应晶体管
申请号CN200880007765.0申请日期2008-01-23
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-02-17公开/公告号CN101652875
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L51/05IPC分类号H;0;1;L;5;1;/;0;5;;;H;0;1;L;5;1;/;1;0;;;H;0;1;L;5;1;/;0;0查看分类表>
申请人罗纳德·厄斯特巴卡;卡尔-埃里克·维伦申请人地址
芬兰奥布 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人罗纳德·厄斯特巴卡,卡尔-埃里克·维伦当前权利人罗纳德·厄斯特巴卡,卡尔-埃里克·维伦
发明人罗纳德·厄斯特巴卡;卡尔-埃里克·维伦;托马斯·贝克隆德;尼克莱·凯霍维尔塔
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人李帆
摘要
本发明涉及有机场效应晶体管。本发明的有机场效应晶体管在有机半导体层(203)与栅极(204)之间包含聚合物膜(205),该聚合物膜在沟道区与栅极之间具有离子传导空间区域(206)。由于该离子传导空间区域(206),栅极与有机半导体层之间的距离可以比现有技术有机场效应晶体管中的更长。

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