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活性物质的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010134564.6
  • IPC分类号:H01M4/1397;H01G9/042
  • 申请日期:
    2010-03-16
  • 申请人:
    TDK株式会社
著录项信息
专利名称活性物质的制造方法
申请号CN201010134564.6申请日期2010-03-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-09-22公开/公告号CN101841026A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01M4/1397IPC分类号H;0;1;M;4;/;1;3;9;7;;;H;0;1;G;9;/;0;4;2查看分类表>
申请人TDK株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人TDK株式会社当前权利人TDK株式会社
发明人佐野笃史;大槻佳太郎;宫木阳辅;高桥毅;樋口章二
代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司代理人龙淳
摘要
本发明提供一种可形成在放电容量方面表现卓著的电化学元件的活性物质的制造方法。本发明的活性物质的制造方法具备以下工序:在反应器内加热包含有锂化合物、含有选自Fe、Mn、Co、Ni以及V中的一种的金属化合物、磷化合物以及水的混合物,并且使反应器的内部与外部气体相连通而使反应器的内压保持在0.3MPa以下,并在混合物的温度达到100~150℃的时候密闭反应器的水热合成工序;以及对水热合成工序后的混合物进行烧成的烧成工序。

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