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光刻装置和器件制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN03110533.5
IPC分类号：G03F7/20;G03F9/00;G06T11/20;G06K15/12;H01L21/027
申请日期：
2003-01-30
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光刻装置和器件制造方法
申请号	CN03110533.5	申请日期	2003-01-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2003-09-10	公开/公告号	CN1441317
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;6;T;1;1;/;2;0;;;G;0;6;K;1;5;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	J·J·S·M·梅尔藤斯
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	章社杲

摘要

本发明通过向包封着组件的第一隔室10的内部提供第一净化气流11，12，和向隔室10的外表面提供第二净化气流16，17，提供一种阻止污染物侵入到组件中的装置。

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