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半导体装置及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110115889.8
  • IPC分类号:H01L23/049;H01L25/07;H01L23/49
  • 申请日期:
    2021-01-28
  • 申请人:
    英飞凌科技股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体装置及其制造方法
申请号CN202110115889.8申请日期2021-01-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-03公开/公告号CN113206048A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/049IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;0;4;9;;;H;0;1;L;2;5;/;0;7;;;H;0;1;L;2;3;/;4;9查看分类表>
申请人英飞凌科技股份有限公司申请人地址
德国瑙伊比贝尔格市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英飞凌科技股份有限公司当前权利人英飞凌科技股份有限公司
发明人F·绍尔兰德
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人刘瑜
摘要
本发明公开了一种半导体装置,其包括:包括有源区的可控半导体元件;以及被布置为在第一水平方向上彼此平行的多个键合线。有源区在第一水平方向上具有第一长度,并且在垂直于第一水平方向的第二水平方向上具有第一宽度。多个键合线中的每个通过第一数量的键合连接电耦合和机械耦合到可控半导体元件,其中,第一数量的键合连接中的每个被布置为在垂直于第一水平方向和第二水平方向的垂直方向上处于有源区上方。多个键合线中的每个的第一键合连接被布置为在第一水平方向上与有源区的第一边缘相距第一距离,并且多个键合线中的每个的第二键合连接被布置为在第一水平方向上与有源区的第二边缘相距第二距离,其中,第二边缘被布置为与第一边缘相对。

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