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带屏蔽结构的尖锥阵列型场发射电子源及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811619109.8
  • IPC分类号:H01J3/02;H01J9/00
  • 申请日期:
    2018-12-28
  • 申请人:
    中国电子科技集团公司第十二研究所
著录项信息
专利名称带屏蔽结构的尖锥阵列型场发射电子源及其制作方法
申请号CN201811619109.8申请日期2018-12-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-05-17公开/公告号CN109767961A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J3/02IPC分类号H;0;1;J;3;/;0;2;;;H;0;1;J;9;/;0;0查看分类表>
申请人中国电子科技集团公司第十二研究所申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路13号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国电子科技集团公司第十二研究所当前权利人中国电子科技集团公司第十二研究所
发明人李兴辉;韩攀阳;谢云竹;李含雁;李栋;蔡军;冯进军
代理机构北京正理专利代理有限公司代理人赵晓丹
摘要
本发明公开了一种带屏蔽结构的尖锥阵列型场发射电子源,其特征在于,包括从下到上依次设置的基底、发射尖锥、绝缘层、屏蔽层和栅极;所述发射尖锥至少部分暴露于所述绝缘层外,所述屏蔽层位于由所述发射尖锥、绝缘层和栅极构成的空腔中,以隔断所述发射尖锥和栅极。该场发射电子源带有防止沿络电弧的屏蔽结构,能有效防止传统场发射电子源的常见的沿络电弧失效的问题发生。本发明还公开了一种带屏蔽结构的尖锥阵列型场发射电子源的制作方法。

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