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高纯度铜溅射靶用铜原材料及高纯度铜溅射靶

发明专利有效专利

申请号：
CN201480035789.2
IPC分类号：--
申请日期：
2014-07-08
申请人：
三菱综合材料株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	高纯度铜溅射靶用铜原材料及高纯度铜溅射靶
申请号	CN201480035789.2	申请日期	2014-07-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-02-17	公开/公告号	CN105339527A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	三菱综合材料株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱综合材料株式会社	当前权利人	三菱综合材料株式会社
发明人	樱井晶;谷雨;佐藤雄次;熊谷训
代理机构	北京德琦知识产权代理有限公司	代理人	康泉;王珍仙

摘要

本发明的高纯度铜溅射靶用铜原材料，除O、H、N、C以外的Cu的纯度在99.999980质量％以上且99.999998质量％以下的范围内，Al的含量为0.005质量ppm以下，Si的含量为0.05质量ppm以下。

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