调准装置和方法，平版印刷装置，器件制造方法及制造的器件

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专利名称	调准装置和方法，平版印刷装置，器件制造方法及制造的器件
申请号	CN03157743.1	申请日期	2003-08-27
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2004-04-07	公开/公告号	CN1487368
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	J·罗夫;F·G·C·比宁;H·W·M·范比尔;桂成群
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	章社杲

摘要

一种附加的光学元件可在调准期间设置在调准光束中。当调准光束具有距衬底前表面不同的焦距时，该光学元件可将调准光束聚焦到衬底的调准标记上。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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